当前位置:安徽贝意克设备技术有限公司>>产品展示>>多温区CVD系统
设备特点 此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器,辅助二维材料蒸发,后端为双温区管式炉,温度控制精确,操作简便
小三温区滑轨CVD/BTF-1200C-III-S-SL-3ZL
主要特点1.此款设备提供两个独立滑动的温场,两温场独立控制,每个温场的加热区的长度为230mm,可在实验过程中推进或推离样品,提供两个位置的快升降温
主要特点 此设备具有两个独立的温场,温场之外配有磁力拉杆和石英料舟,并配有内探热电偶,可实现在实验过程中将固态源(如硫粉、硒粉等)推进热场,并同时可检测温度
大三温区滑轨CVD系统(低真空、高真空环境均可)BTF-1200C-III-SL-4ZL
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